陶瓷磷扩散源产品

陶瓷片状磷扩散源是由含五氧化二磷(P2O5)组成的化合物所构成的多孔陶瓷体。在晶体管和半导体集成电路的制造过程中,它用于对硅片实现磷掺杂,即N一型掺杂。这种陶瓷体在高温下分解放出P2O5随后淀积在硅片上从而实现磷掺杂,即:

2P2O5+5Si 5SiO2+4P

这种陶瓷片状磷扩散源与通常采用的液态磷源POC1aPH2相比有着扩散均匀性,重复性好,操作简便和无毒等优点,深受用户的欢迎。技术先进,质量稳定。

产品规格及性能指标:

性能

规格

SP-1

SP-2

SP-3

SP-4

工作温度/

1050-1150

1000-1100

950-1050

900-1050

NaKFe分别含量/PPm

2050

2050

2050

2050

CuPbB分别含量/PPm

<10

<10

<10

<10

毒性(常温)

产品尺寸:

Φ50×1.5mmΦ40×1.5mmΦ75×2mmΦ100×22.5mm

可按用户要求规格生产供货。

 

陶瓷片状磷扩散源使用说明 下载

诺宝科技